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横河電機/半導体開発・生産拠点新設

2005年06月19日/未分類

横河電機(株)は、神奈川県相模原市に化合物半導体の開発・生産拠点を新設する。合わせて拠点新設のため、神奈川県に「施設整備等助成制度」による助成認定を申請した。

同社は2006年度中の製品化を目指しており、早くて2015年と言われていた光パケットネットワークの実用化を10年前倒ししようとしている。

光通信機器市場は、通信事業者が通信回線の光化を進める方針を明確にしていることから、今後大規模な投資が継続されると見込まれ、今後急速に拡大する市場に対して、いち早く生産体制を整え、技術開発を加速することが、今回の新拠点建設の狙い。

新設する拠点には、最新の免震構造を取り入れた地上5階建ての研究開発兼生産棟を建設し、光通信用デバイスや測定器・ICテスタ用デバイスなど、当社製品に搭載する化合物半導体を年間100万個生産する計画。

新拠点の概要
所在地:神奈川県相模原市小山4-803
敷地面積:19,294m2
延床面積:約28,000m2
総投資額:約250億円
稼動予定時期:2006年11月
従業員数:約200人

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