信越化学は4月9日、フォトレジスト関連事業の拡大をめざし、台湾に工場を新設すると発表した。
台湾当局に建設許可を申請しており、許可が取れ次第、建設工事に着手する。工期は1年程度、投資金額は約130億円を見込む。
フォトレジスト関連製品の需要は、半導体デバイスの生産量の増加や微細化の進展により、アジアとアメリカで伸びている。信越化学は、需要地の一つである台湾で生産を行うことで、フォトレジストの需要の伸びを着実にとらえていく。
また、従来の直江津工場と併せフォトレジスト関連事業で2つの生産拠点を持つことでリスクの分散を実現し、事業の更なる強化を進めていくとしている。
