日新電機は1月26日、中国の現地法人が半導体とFPD製造用イオン注入装置の新工場を建設中で、7月より操業を開始すると発表した。
<完成予想図>
新工場は、投資額は約8億円、延床面積3396㎡の規模で、中国国内企業によるサプライチェーン構築という国家レベルの戦略的ニーズに対応するためで、中国市場におけるシェア拡大を目指す。
新工場の概要
建築面積:2939㎡
建築構造:鉄骨平屋造り一部2階建て、組立場クリーンルーム(790㎡)
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2012年01月26日/生産
日新電機は1月26日、中国の現地法人が半導体とFPD製造用イオン注入装置の新工場を建設中で、7月より操業を開始すると発表した。
<完成予想図>
新工場は、投資額は約8億円、延床面積3396㎡の規模で、中国国内企業によるサプライチェーン構築という国家レベルの戦略的ニーズに対応するためで、中国市場におけるシェア拡大を目指す。
新工場の概要
建築面積:2939㎡
建築構造:鉄骨平屋造り一部2階建て、組立場クリーンルーム(790㎡)