昭和電工は1月8日、電子材料用高純度ガス事業強化のため、上海にある製造拠点上海昭和電子化学材料（SSE）の隣接地に第二工場用地を取得し、高純度N2O（亜酸化窒素）および高純度C4F8（オクタフルオロシクロブタン）の製造設備と、高圧ガス危険物倉庫を建設することを決定したと発表した。
＜上海昭和電子化学材料（SSE）第一工場外観＞
第二工場の稼働は2021年下半期を予定している。
高純度N2Oは主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源として、高純度C4F8は主にその酸化膜の微細加工（エッチング）などに使用される特殊ガス。第5世代移動通信（5G）など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により、中国においては今後も半導体およびディスプレイ市場（有機ELテレビ等）の拡大が見込まれるとしている。
なお、昭和電工は現在、高純度N2Oは川崎事業所と韓国で、高純度C4F8は川崎事業所と上海（SSE第一工場）で生産しているが、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため、“地産地消”施策をさらに進める。また中国において年々化学品への規制が強化される中、中国上海に自社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することは、サプライチェーンの強化、競争力の向上に大きく寄与するとしている。
また、半導体市場は、台湾でも同様に拡大が見込まれるため、昭和電工の現地製造子会社「台湾昭和化学品製造」においても高純度C4F8 年産150トンの製造設備を新設する（2020年春稼働予定）。今回の投資額は、上海・台湾を合わせ、約30億円となる。
■概要
名称：SSE第二工場
面積：約1万m2
用地：50年間の土地使用権の取得
建設予定設備：高純度N2O 年産能力1,000トン
高純度C4F8 年産能力 600トン
高圧ガス危険物倉庫
稼働開始予定：2021年下半期
